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低压化学气相沉积设备
低压化学气相沉积设备
LPCVD( 低 压 化 学 气 相 沉 积 设 备 ) 用 加 热 的 方 式 在 低 压 条 件 下使 气 态 化 合 物 在 基 片 表 面 反 应 并 积 淀 形 成 固 定 固 体 薄 膜 , 目 前 主 要 使 用 方 向 为 : TOPCON与 POLO( POLY- SI) 电 池 工 艺 技 术 。
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